概述
这单N沟道MOSFET的设计采用了飞兆半导体先进的功率沟槽过程特殊的MicroFET引线框架,以优化的 R DS(ON)@ V GS = 2.5V 。
特点
的R DS(ON)=40mΩ,V GS = 4.5V,I D = 5.0A
的R DS(ON)=50MΩ@ V GS = 2.5V,I D = 4.5A
0.8毫米薄型最大的新封装的MicroFET的2x2毫米
HBM ESD保护水平> 2.5K V典型值(注3)
符合RoHS标准
应用/框图(S)
锂离子电池
应用笔记
AN - 0953:大会的MicroFET 2X2包装准则 “(133 K)2011年8月05,
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