概述
这双P沟道MOSFET的设计采用了飞兆半导体先进的功率沟槽过程优化
R DS(ON)@ V GS = -1.5 V。
特点
最大R DS(ON)= 0.5Ω,在V GS = -4.5 V,I D = -0.83一个
最大R DS(ON)= 0.7Ω,在V GS = -2.5 V,I D = -0.70一个
最大R DS(ON)= 1.2Ω,在V GS = -1.8 V,I D = -0.43一个
最大R DS(ON)= 1.8Ω,在V GS = -1.5 V,I D = -0.36一个
HBM ESD保护水平= 1400 V(注3)
符合RoHS标准
应用/框图(S)
锂离子电池
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